K&F CONCEPT

Filtr UV K&F CONCEPT KF01.2703 do FujiFilm Srebrny

109,99
Dostawa 2-5 dni
Dostawa 2-5 dni
Zamów telefonicznie 22 122 33 00
Rodzaj filtra UV Możliwość założenia osłony Tak
Rodzaj mocowania Gwint Powłoki Antyrefleksyjne, Hydrofobowe, Nano, Ochronne
Kod produktu 1125680

Czysty obraz, naturalne kolory – zawsze

 

Filtr UV K&F CONCEPT NANO-X MRC to obowiązkowe akcesorium dla każdego fotografa – niezależnie, czy fotografujesz w górach, nad morzem czy w miejskiej dżungli. Skutecznie eliminuje efekt zamglenia i poprawia kontrast, dzięki czemu zdjęcia są czystsze, ostrzejsze i pełne detali – bez ingerencji w kolorystykę.

 

Redukcja promieniowania UV i ochrona przed odblaskami

 

Filtr pochłania promieniowanie ultrafioletowe, szczególnie silne w warunkach wysokiej przejrzystości powietrza. Dzięki zastosowanym nano-powłokom antyrefleksyjnym skutecznie ogranicza niechciane flary i refleksy, które mogłyby obniżyć jakość zdjęcia. Efekt? Perfekcyjna ostrość, bez rozmyć i świetlnych plam.

 

Ochrona obiektywu w każdej sytuacji

 

Ten filtr to nie tylko lepsze zdjęcia, ale też skuteczna ochrona frontowej soczewki aparatu przed kurzem, pyłem, wilgocią, tłuszczem i zarysowaniami. Nawet w trudnym terenie nie musisz się martwić o swój sprzęt. Warstwy nano skutecznie odpychają zabrudzenia i ułatwiają czyszczenie powierzchni filtra.

 

Technologia Nano-X – najwyższa jakość optyczna

 

Wysokiej klasy japońskie szkło optyczne gwarantuje ponad 99,9% przepuszczalności światła. Aż 28 warstw powłok ochronnych i antyrefleksyjnych zapewnia pełną przejrzystość i brak zniekształceń. Ultra cienka, aluminiowa ramka typu SLIM zapobiega winietowaniu i sprawia, że filtr idealnie współpracuje z szerokokątnymi obiektywami.

 

System magnetyczny – szybki montaż, pełna kompatybilność

 

Przednia rama filtra jest magnetyczna – bez problemu połączysz go z innymi magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT lub dedykowaną osłoną przeciwsłoneczną 52 mm. To szybka i wygodna opcja dla osób, które często zmieniają filtry w terenie.

 

W zestawie:

 

  • Filtr UV K&F CONCEPT NANO-X MRC

  • Solidne, sztywne etui ochronne

 

Kompatybilność z aparatami FujiFilm X100:

 

  • X100VI

  • X100V

  • X100F

  • X100T

  • X100S

  • X100

Rodzaj filtra UV
Możliwość założenia osłony Tak
Rodzaj mocowania Gwint
Powłoki Antyrefleksyjne, Hydrofobowe, Nano, Ochronne
Gwarancja 24 miesiące
Nazwa INNPRO Sp. z o.o.
Ulica i numer budynku Rudzka 65c
Kod pocztowy 44-200
Miasto Rybnik
Adres elektroniczny [email protected]
Informacje o bezpieczeństwie Pobierz
Nazwa producenta/importera K&F CONCEPT

Zostań łowcą okazji
i zapisz się na nasz newsletter!